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172nm真空紫外光刻機(jī)在華南理工大學(xué)通過(guò)驗(yàn)收

欄目:公司動(dòng)態(tài) 發(fā)布時(shí)間:2022-04-29
華南理工大學(xué)從我公司采購(gòu)的172nm光刻機(jī)順利通過(guò)驗(yàn)收

華南理工大學(xué)從我公司采購(gòu)的172nm光刻機(jī)順利通過(guò)驗(yàn)收,

特點(diǎn):
1 新一代真空紫外(VUV)光源波長(zhǎng):170nm
2 輸出強(qiáng)度高: 7.2eV/光子
3 高光輸出均勻性: 3%
4 燈壽命長(zhǎng): 曝光可達(dá)30,000次
5 不要超凈間、無(wú)需復(fù)雜昂貴的光學(xué)平臺(tái)
6 操作簡(jiǎn)單、快速
7 體機(jī)小巧
目標(biāo)實(shí)驗(yàn)室:大學(xué)、科研院所,進(jìn)行芯片、傳感器、電路研究的如下實(shí)驗(yàn)室
1 半導(dǎo)體材料和工藝研究
2物理:微機(jī)電、納米、存儲(chǔ)、芯片研究、傳感器
3 化學(xué):材料研究,刻蝕、光刻、清洗
4 光電
5 材料科學(xué)
6生物:微流控,生物芯片
7醫(yī)學(xué):微流控,生物/醫(yī)學(xué)芯片

光刻機(jī)美國(guó)實(shí)驗(yàn)室小型光刻機(jī)

  1. 172納米 全新加工原理

傳統(tǒng)1 72 nm光源的低輸出功率阻礙了該波長(zhǎng)在研究和生產(chǎn)中的廣泛應(yīng)用。 π2 -CYGNI克服了這一障礙,并揭示了1 72nm的真正能力-全新化學(xué)驅(qū)動(dòng)方法,反應(yīng)方式和加工技術(shù)。 

紫外線不僅僅用于光刻和固化!


全新能量驅(qū)動(dòng)方式

紫外線弧光燈可提供較高的平均功率。 準(zhǔn)分子紫外線源提供高光子通量。 π2 -CYGNI提供高平均功率和高光子通量- 無(wú)需主動(dòng)或外部冷卻。 

高功率和高光子通量的這種獨(dú)特組合包裝在便攜的封裝內(nèi),并引發(fā)了其他光源無(wú)法實(shí)現(xiàn)的大面積反應(yīng)和過(guò)程。


全新技術(shù)燈具

每個(gè)π2 -CYGNI的是一個(gè)超?。?lt;4毫米)平面微腔放電燈。 與傳統(tǒng)的弧光放電燈相比,廣域發(fā)射提供了卓越的均勻性,同時(shí)消除了對(duì)復(fù)雜的聚光,準(zhǔn)直和均化光學(xué)器件的需求。


紫外線無(wú)泄漏

在π2 -CYGNI之前,產(chǎn)生紫外線通常意味著產(chǎn)生有毒物質(zhì),低轉(zhuǎn)換效率和高設(shè)備成本。 π2 -CYGNI通過(guò)提供一種環(huán)保且節(jié)能的解決方案打破了這些障礙。 π2 

-CYGNI的制造和使用過(guò)程中不使用有毒材料,在生產(chǎn)過(guò)程中使用π- CYGNI可以減少化學(xué)材料和水的消耗。 有效的降低了使用成本,即成本僅是使用其他1 72 nm光源成本的一小部分。

 光刻機(jī)美國(guó)實(shí)驗(yàn)室小型光刻機(jī)

輸出強(qiáng)度   > 10 mW/cm2

強(qiáng)度均勻性   < 3%

峰值輸出波長(zhǎng)  172 nm

-3dB寬度(FWHM)    8.9 nm

發(fā)光面積   43 mm x 43 mm

預(yù)熱時(shí)間(從0到95%)  < 2 s

直流輸入電壓  12 V

電源輸入電壓  110-220 V / 50-60 Hz

氮?dú)?氬氣流速*     0.5-1 SCFM

壽命   > 5000 hours

功耗   < 25 W

傳輸環(huán)境:                          氮?dú)?,氬氣,UV級(jí)熔融石英,高真空

π2-Cygni 系統(tǒng)參數(shù)


π-Cygni消除了對(duì)特定光刻膠化學(xué)物質(zhì)的需求

由于光具有高能量(每個(gè)光子7 .2eV),現(xiàn)在幾乎可以將任有機(jī)聚合物用作光刻膠!π2-CYGNI的1 

72nm可實(shí)現(xiàn)更高分辨率的成像,使用簡(jiǎn)單且廉價(jià)的光刻膠可以消除傳統(tǒng)基于DNQ的光刻膠系統(tǒng)產(chǎn)生的堿廢物。

新型,新的可能性

重新定位傳統(tǒng)的光刻膠。 由于曝光機(jī)制的性質(zhì),不再需要光敏劑。 簡(jiǎn)而言之,π2-CYGNI分解有機(jī)聚合物鏈,直到它們揮發(fā)和蒸發(fā)。 

此過(guò)程是通用的-幾乎所有有機(jī)聚合物現(xiàn)在都可以用作光刻膠,即使是固體形式也是如

此。

干/正/負(fù)處理-由您決定!

由于有機(jī)膜質(zhì)量減少,在曝光期間產(chǎn)生圖像,因此消除了對(duì)單獨(dú)顯影步驟的需要。 

由此產(chǎn)生的高對(duì)比度足以用于其他過(guò)程,從而減少了處理時(shí)間并減少了廢物的生。為了滿足更苛刻的應(yīng)用,可以在曝光后對(duì)有機(jī)聚合物進(jìn)行進(jìn)一步處理以提高分辨率。 但是,與傳統(tǒng)光刻膠不 

同,色調(diào)(正或負(fù))由顯影液而不是敏化劑決定。 除了減少質(zhì)量和蒸發(fā)外,由于鏈長(zhǎng)減少,在曝光過(guò)程中聚合物中也會(huì)發(fā)生交聯(lián)。 

無(wú)與倫比的單曝光分辨率

較短的波長(zhǎng)  較高的分辨率。 與I  線光刻相比,π2-

CYGNI具有將分辨率提高50%的潛力。