華南師范大學華南先進光電子研究院從我公司采購的172nm真空紫外光刻機正式通過驗收。未在超凈間環(huán)境，只在普通的實驗室環(huán)境下光刻精度就能達到了1um，客戶對該產(chǎn)品非常的滿意。172nm真空紫外光刻機規(guī)格配置：設備技術參數(shù)： 輸出強度：≥10mW/cm^2 透明孔徑上的強度均勻性：≤3% 峰值輸出波長：172nm 光發(fā)射面積：≥40mm*40mm 光刻分辨率：≤1μm 電源輸入電壓：110-220V/50-60Hz 傳輸環(huán)境：氮氣，氬氣，UV級熔融石英，高真空 應用領域：表面能改性、增強薄膜親水性、低損傷原子級表面清潔、光刻蝕。